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电磁屏蔽玻璃 - 金属膜屏蔽玻璃
来源: | 作者:kahoglass | 发布时间: 2017-09-05 | 2093 次浏览 | 分享到:
嘉颢特玻电磁屏蔽玻璃厂家加工生产定制金属膜屏蔽玻璃;流程监控,出货检测,防震包装,安全运输,细致的售后服务。咨询获取免费测试样品
金属膜屏蔽玻璃
采用在玻璃表面镀制金属或者金属氧化物薄膜来达到电磁屏蔽的目的是比较常用的方法。膜层一般是导体,也可以是半导体,由于膜层材料和厚度的不同,对电
波屏蔽的波长范围和衰减效果也不同。层的种类主要有贵金属膜如金膜、银吧謨、金一银、金一铜、一锏复合等;全属謨如钛、铝、钴、铬、镍、锡锰、铜等;氧化物膜如氧化锡、氧化一氧化锡及上述金属的氧化物膜等,膜制作工艺包括物理气相沉积:真空蒸发法、阴溅射法、等离子溅射法等;化学沉积:热 CVD、激光 cVD、等离子 CVD等;化学热分解:液体喷涂、固体微源涂、热分解等;溶胶一凝胶法;多层浸渍一热分解等。
图1是电磁波在金属屏蔽謨表面及内部吸收和反射过程的示意图·图中,为电磁波从空气介质至金属表面的反射系数, p。为电磁波从金属屏蔌膜到空气介质面的反射系数,为传播系数。电磁波从左边向右边传播,到达屏蔽膜 A面一部分反射回去,另一部分穿透屏蕊謨进人謨层,然后在膜层内继续衰减传播,当到达 B面时,同样有一部分反射回屏蔽膜内,一部分穿透界面进人空气介质,反射回屏蔽膜内的反射波在到达 A面时又会发生反射和透射,这样在屏蔽膜内部产生多次反射过程。多次反射修正系数是一个负值,起着减少界面反射損耗的作用。镀膜电磁屏蔽玻璃的屏蔽效率主要决定于膜层的方块电阻、辐射源及其到屏蔽玻璃的距离。由于这层薄膜很薄,其厚度远小于河4巛为干扰电磁波的波长),因此吸收损耗可以忽略不计,主要靠反射损耗来进行屏薮,但多次反射往往不能完全忽略
电磁波在金属屏蔽膜表面及内部吸收和反射过程
▲【图1】电磁波在金属屏蔽膜表面及内部吸收和反射过程▲
在理论上,导电膜对于高阻抗辐射源在近场范围内的屏蔽效率SE为:
SE=r+r·=20lg*{K/(D·F·R)}   【K为一个常数;D表示辐射源与屏蔽玻璃的间距;F为屏蔽场的频率;R为透明导电膜的方块电阻】
方块电阻R/Ω
屏蔽效率SE/dB
F=3~10MHz F=10~30MHz
F=30~100MHz
F=100~300MHz
F=300~1000MHz
100 - - 42.2 32.2 22.2
20 - - 56.2 46.2 36.2
5 88.2 78.2 58.2 58.2 48.2
▲【表1】具有不同方块电阻值的透明导电膜对于高阻抗辐射源的屏蔽效率▲
与夾金属丝网屏蔽玻璃相比,镀膜屏蔽玻璃的屏蔽效能较低,但在一定范围内相差不是很明显,只有在电磁波频段较高时,二者差别比较大。此外,这种屏蔽玻璃的透射比与表面方块电阻呈线性关系,当透射比为60%~80%,相当于表面方块电阻约10~100Ω。因此,镀膜屏蔽玻璃的光学透视率要明显好于夹金属丝屏蔽玻璃。下表2是镀膜屏蔽玻璃与夹金属丝网屏蔽玻璃屏蔽效能的比较。因此,镀膜屏蔽玻璃的光学透视率要明生夹金属丝网屏蔽玻璃。表一是镀膜屏蔽玻璃与夹金属丝网屏蔽玻璃屏显幻的比较。在实际情况中经常存在的不是完整的屏蔽,而是孔洞、缝隙等不完全屏蔽,两种电磁屏蔽玻璃正好可以起到屏蔽作用,弥补屏蔽的不完整性,提高整体屏蔽效能。因此,在既有电磁屏蔽要求,又有一定可视要求的部位,电磁屏蔽玻璃也大量应用在安全保卫部门办公区的可视窗口,商业写字楼办公室的玻璃隔墙
频率/MHz 夹金属丝网屏蔽玻璃效能/dB 镀膜屏蔽玻璃屏蔽效能/dB
1 95 81
10 90 63
100 81 36
1000 65 12
▲【表2】镀膜屏蔽玻璃与夹金属丝网屏蔽玻璃屏蔽效能比较▲
当今,用来屏蔽电磁波辐射的膜层主要是由 TCO膜和银膜组成的透明导电膜。过去,在某些涉及到阳光控制膜的情况中,它们也和金膜系结合起来使用果是起减反射的作用, TCO膜组成的膜系可以通过一个或两个单独的 TCO膜层来构成。其中的一种结构是一个五层膜的膜系(glass-Si02-ITO-Si02-ITO-Si02),膜层总厚度大约为215nm。这种由 TCO膜组成的膜系不仅具有很高的透过率,而且它的方块电阻值也可以达到只有大约100的水平。如果要求的方块电阻只有几欧姆,那么由贵金属组成的膜系通常都采用单层或两层银膜。双银膜系不仅可以达到10的方块电阻值,还可以使光线透过率值>75%。

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