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电磁屏蔽玻璃 - 金属膜屏蔽玻璃
来源: | 作者:kahoglass | 发布时间: 2017-09-05 | 3764 次浏览 | 分享到:
嘉颢特玻电磁屏蔽玻璃厂家加工生产定制金属膜屏蔽玻璃;流程监控,出货检测,防震包装,安全运输,细致的售后服务。咨询获取免费测试样品
金属膜屏蔽玻璃
采用在玻璃表面镀制金属或者金属氧化物薄膜来达到电磁屏蔽的目的是比较常用的方法。膜层一般是导体,也可以是半导体,由于膜层材料和厚度的不同,对电
波屏蔽的波长范围和衰减效果也不同。层的种类主要有贵金属膜如金膜、银吧謨、金一银、金一铜、一锏复合等;全属謨如钛、铝、钴、铬、镍、锡锰、铜等;氧化物膜如氧化锡、氧化一氧化锡及上述金属的氧化物膜等,膜制作工艺包括物理气相沉积:真空蒸发法、阴溅射法、等离子溅射法等;化学沉积:热 CVD、激光 cVD、等离子 CVD等;化学热分解:液体喷涂、固体微源涂、热分解等;溶胶一凝胶法;多层浸渍一热分解等。
图1是电磁波在金属屏蔽謨表面及内部吸收和反射过程的示意图·图中,为电磁波从空气介质至金属表面的反射系数, p。为电磁波从金属屏蔌膜到空气介质面的反射系数,为传播系数。电磁波从左边向右边传播,到达屏蔽膜 A面一部分反射回去,另一部分穿透屏蕊謨进人謨层,然后在膜层内继续衰减传播,当到达 B面时,同样有一部分反射回屏蔽膜内,一部分穿透界面进人空气介质,反射回屏蔽膜内的反射波在到达 A面时又会发生反射和透射,这样在屏蔽膜内部产生多次反射过程。多次反射修正系数是一个负值,起着减少界面反射損耗的作用。镀膜电磁屏蔽玻璃的屏蔽效率主要决定于膜层的方块电阻、辐射源及其到屏蔽玻璃的距离。由于这层薄膜很薄,其厚度远小于河4巛为干扰电磁波的波长),因此吸收损耗可以忽略不计,主要靠反射损耗来进行屏薮,但多次反射往往不能完全忽略
电磁波在金属屏蔽膜表面及内部吸收和反射过程
▲【图1】电磁波在金属屏蔽膜表面及内部吸收和反射过程▲
在理论上,导电膜对于高阻抗辐射源在近场范围内的屏蔽效率SE为:
SE=r+r·=20lg*{K/(D·F·R)}   【K为一个常数;D表示辐射源与屏蔽玻璃的间距;F为屏蔽场的频率;R为透明导电膜的方块电阻】
方块电阻R/Ω
屏蔽效率SE/dB
F=3~10MHz F=10~30MHz
F=30~100MHz
F=100~300MHz
F=300~1000MHz
100 - - 42.2 32.2 22.2
20 - - 56.2 46.2 36.2
5 88.2 78.2 58.2 58.2 48.2